料金表

■微細構造解析プラットフォーム(装置所属別)
先端電子顕微鏡センター
/ 理学研究科/ 材料科学高等研究所 

■微細加工プラットフォーム
試作コインランドリ(MEMS)

微細構造解析プラットフォーム(所属:先端電子顕微鏡センター)
試料作製実費相当 (1,500円/時間)
技術支援 (3,000円/時間)
解析支援 (3,000円/時間)
試料作製装置群及び実験室使用料 (300円/時間)
FIB試料用Moグリッド(Cuより差額) (1,200円/1個)
FIB試料用Siグリッド ナノメッシュ(Cuより差額) (2,400円/1個)
利用料【円/日(8時間)】
装置名
ナノPF(微細構造解析)
成果公開
成果非公開
走査型電子顕微鏡(SU8000,S-5500)
10,345 17,488
高性能分析電顕(Titan80-300 結像系収差補正)
30,156 38,196
FIB-SEM加工観察装置(Quanta 3D)
22,003 31,543
FIB-SEM加工観察装置(Versa 3D)
22,003 31,543
原子分解能分析電顕(JEM-ARM200F 結像/照射系補正)
24,000 64,480
超高分解能分析電顕(Titan³ 60-300 結像/照射系補正)
35,930 64,935
超高分解能分析電顕(Titan³ 60-300 照射系補正)
32,337 58,441
※使用料においては先端電子顕微鏡センターの利用規程に従います。使用単位は(1日あたり)8時間です。
※技術支援、解析支援については都度見積・相談によります。
※表示は税抜価格です。

微細構造解析プラットフォーム (所属:理学研究科附属巨大分子解析研究センター)
装置
成果公開【円/時間】
成果非公開【円/時間】
核磁気共鳴装置
5,200
32,100
ICP発光分光分析装置
3,200
4,600
※利用形態は技術代行のみです。
※消耗品はご利用者様にご用意して頂きます。
※表示は税抜価格です。

微細構造解析プラットフォーム(所属:材料科学高等研究所)
装置
料金
 
消耗品費
成果公開
成果非公開
  機器利用 技術補助 技術代行 機器利用 技術補助 技術代行 単価
別途相談
高出力全自動水平型多目的X線回折装置
1,247 2,241 2,738 1,993 2,489 3,731 円/
時間
熱分析装置
238 1,231 1,728 983 1,480 2,722 円/
時間

※表示は税抜価格です。

微細加工プラットフォーム(MEMS)
成果公開の場合 ■技術支援料 3,150円/時間 ■施設使用料 860円/時間(学内は670円/時間) 
成果非公開の場合 ■技術支援料 5,565円/時間 ■施設使用料 860円/時間(学内は670円/時間)

装置一覧及び料金表ダウンロード (こちら) 
装置
番号
装置名
利用料
(円/時間)
装置
番号
装置名
利用料
(円/時間)
A.洗浄・乾燥
A-1
エッチングチャンバー
705
A-6
ブラシスクラバ
3,922
A-2
リン酸槽
1,029
A-7
スピン乾燥機
1,603
A-3
CO2 超臨界乾燥機
740
A-8
有機ドラフトチャンバー
705
A-4
イナートオーブン(シンター炉)
649
A-9
4"スピン乾燥機
1,338
A-5
真空オーブン
3,922
A-10
6"スピン乾燥機
1,338
B.フォトリソグラフィ
B-1
パターンジェネレータ
1,524
B-10
スピンコータ
2,585
B-2
スピンコータ
1,475
B-11
スプレー現像装置
1,629
B-3
クリーンオーブン
1,861
B-12
ステッパ
1,379
B-4
ポリイミドキュア炉
1,247
B-13
エリオニクス EB描画装置
6,869
B-5
両面アライナ
2,369
B-14
レーザ描画装置
6,570
B-6
片面アライナ
1,566
B-15
球面露光装置
3,750
B-7
Raith EB描画装置
3,015
B-16
スピン乾燥機 1,603
B-8
現像ドラフト
705
B-17
ホットプレート 578
B-9
UV キュア装置
1,886      
C.酸化拡散・イオン注入・熱処理
C-1
酸化炉(半導体用)
8,851
C-7
アニール炉
8,225
C-2
酸化炉(MEMS用)
7,447
C-8
中電流イオン注入装置
17,214
C-3
P拡散炉
9,919
C-9
高電流イオン注入装置
17,410
C-4
P押し込み炉
8,243
C-10
ランプアニール装置
6,694
C-5
B拡散炉
8,955
C-11
メタル拡散炉
8,027
C-6
B押し込み炉
8,243  
D.成膜
D-1
LPCVD(SiN)
8,848
D-11
めっき装置
2,085
D-2
LPCVD(Poly-Si)
10,005
D-12
MOCVD
18,461
D-3
LPCVD(SiO2)
10,971
D-13
JPEL PECVD
13,808
D-4
熱CVD
16,973
D-14
住友精密TEOS PECVD
15,323
D-5
住友精密PECVD
13,685
D-15
自動搬送 芝浦スパッタ装置
5,505
D-6
W-CVD
8,401
D-16
球面成膜用スパッタ装置
3,530
D-7
アネルバスパッタ装置
6,158
D-17
多元材料原子層堆積(ALD)装置
8,988
D-8
芝浦スパッタ装置
3,045
D-18
酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
10,561
D-9
電子ビーム蒸着装置
4,599
D-19
アネルバマルチスパッタ
6,578
D-10
ゾルゲル自動成膜装置
6,361      
E.エッチング
E-1
DeepRIE装置#1
7,390
E-10
アルバック多用途RIE装置
8,230
E-2
DeepRIE装置#2
7,390
E-11
KOHエッチング槽
2,638
E-3
DeepRIE装置#3
7,674
E-12
TMAHエッチング槽
2,646
E-4
アネルバRIE装置
6,082
E-13
DeepRIE装置#4
13,709
E-5
アネルバSi RIE装置
5,841
E-14
イオンミリング装置
10,675
E-6
Al-RIE装置
9,415
E-15
DeepRIE装置#4
6,957
E-7
アルバック アッシング装置
3,206
E-16
イオンミリング装置
13,655
E-8
ブランソン アッシング装置
2,558
E-17
ケミカルドライエッチャー(CDE)
5,442
E-9
ECRエッチング装置
15,732
E-18
プラズマクリーナー
2,717
F.接合・研磨・パッケージング
F-1
ウェハ接合装置
4,546
F-9
EVG ウェハ接合装置
4,678
F-2
東京精密 ダイサ
8,841
F-10
EVG ウェハ接合用アライナ
3,915
F-3
ディスコ ダイサ
1,888
F-11
UVインプリント装置
5,112
F-4
ワイヤボンダ
776
F-12
熱インプリント装置
4,750
F-5
レーザマーカ
1,969
F-13
エキシマ洗浄装置
1,077
F-6
6インチウェハ研磨装置
1,679
F-14
サーフェイスプレナー
11,842
F-7
4インチウェハ研磨装置
1,394
F-15
ウォーターレーザ
5,087
F-8
サンドブラスト
2,734  
G.測定
G-1
ウェハゴミ検査装置
1,323
G-15
超音波顕微鏡
1,810
G-2
膜厚計
960
G-16
デジタルサーモ顕微鏡
833
G-3
Dektak 段差計
1,237
G-17
赤外線顕微鏡
818
G-4
Tenchor 段差計
1,237
G-18
四重極質量分析装置
813
G-5
深さ測定装置
666
G-19
TOF-SIMS
14,247
G-6
4探針測定装置
667
G-20
クイックコータ
933
G-7
拡がり抵抗測定装置
2,180
G-22
卓上型エリプソ
344
G-8
ウェハプローバ
2,217
G-23
大口経AFM
3,592
G-9
金属顕微鏡
741
G-24
レーザ/白色共焦点顕微鏡
4,491
G-10
デジタル顕微鏡
1,168
G-25
直線集束ビーム超音波材料解析システム#1
3,823
G-11
熱電子SEM
2,208
G-26
直線集束ビーム超音波材料解析システム#2
3,823
G-12
FE-SEM
3,678
G-27
直線集束ビーム超音波材料解析システム#2
8,773
G-13
マイクロX線CT
2,620
G-28
直線集束ビーム超音波材料解析システム#2
6,822
G-14
エリプソ
563      

※表示は税込価格です。